近日，三星電子會長李在镕親自前往德國奧伯科亨，訪問了全球領(lǐng)先的精密光學(xué)技術(shù)公司蔡司的總部。此次訪問旨在加強(qiáng)三星與蔡司在半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域的合作，特別是針對EUV（極紫外）光刻技術(shù)的深度合作。
蔡司作為ASML EUV光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)的獨(dú)家供應(yīng)商，其技術(shù)和專利在行業(yè)內(nèi)具有極高的影響力。每臺EUV光刻機(jī)中，都包含了大量的蔡司組件，這些組件的精度和性能直接決定了光刻機(jī)的整體性能。此外，蔡司在EUV光刻技術(shù)領(lǐng)域擁有大量關(guān)鍵專利，進(jìn)一步鞏固了其在這一領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。
訪問期間，李在镕與蔡司CEO卡爾·蘭普雷希特等高層進(jìn)行了深入的交流。雙方就半導(dǎo)體技術(shù)的主要發(fā)展趨勢、中長期技術(shù)路線圖等問題進(jìn)行了討論，并一致同意進(jìn)一步擴(kuò)大在EUV技術(shù)和先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備相關(guān)領(lǐng)域的合作。
通過深化合作，三星電子有望在未來的半導(dǎo)體產(chǎn)品上實(shí)現(xiàn)性能增強(qiáng)、流程優(yōu)化和產(chǎn)能提升。這些改進(jìn)將直接提升三星在半導(dǎo)體代工和存儲器業(yè)務(wù)領(lǐng)域的競爭力，使其在激烈的市場競爭中占據(jù)更有利的位置。
此外，蔡司還計(jì)劃在未來幾年內(nèi)投資數(shù)十億韓元在韓國建設(shè)研發(fā)中心，以加強(qiáng)與三星等韓國企業(yè)的戰(zhàn)略合作。這一投資不僅將提升蔡司在亞洲地區(qū)的技術(shù)影響力，也將為韓國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展注入新的動力。
值得一提的是，三星電子還計(jì)劃在今年內(nèi)實(shí)現(xiàn)1cnm（第六代10nm級）內(nèi)存的量產(chǎn)，并正積極推廣其NPU業(yè)務(wù)。這一系列的舉措表明，三星正在全力推進(jìn)半導(dǎo)體技術(shù)的研發(fā)和應(yīng)用，以應(yīng)對日益激烈的市場競爭。
此次李在镕的訪問和雙方的合作深化，無疑為三星和蔡司在未來的半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域的發(fā)展開啟了新的篇章。我們期待雙方能夠繼續(xù)攜手合作，共同推動全球半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)步和發(fā)展。
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